과제목록
저GWP적용 LCD Dry Etching 장비 및 공정 개발
상세정보
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세부사업명
글로벌전문기술개발(에너지자원순환)(R&D)
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내역사업명
에너지자원순환효율규제대응
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과제명(국문)
저GWP적용 LCD Dry Etching 장비 및 공정 개발
- 과제명(영문)
- NTIS 과제고유번호
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IRIS 과제번호
2010501020001A
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주관연구개발기관
(주)원익홀딩스
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공동연구개발기관
삼성디스플레이(주)
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총 연구개발기간
2010-06-01 ~ 2013-05-31
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당해연도 연구개발기간
2012-06-01 ~ 2013-05-31
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정부지원금(천원)
820,000
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민간현금(천원)
84,064
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민간현물(천원)
739,060
